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目前市場上的平板顯示器、LED加工、印制電路板、微機電領域、金剛石臺面上制備金屬薄膜電極、各種光柵、光子晶體等微納光學元件、生物芯片、光刻制造微針都是屬于光刻膠領域的一部分，在產品加工的過程中產生的大量污水應該要用什么設備進行處理呢?
光刻膠指的是通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，膠體的溶解度發生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。
這些電子設備采用的原材料主要有樹脂溶液、光敏劑、溶劑等，光刻膠廢水的主要來源為對原材料的純化產生的廢水、生產過程中產生的廢液、清洗設備產生的廢水。
光刻膠的污水屬于硅膠污水中的一種，因此是可以采用電子污水處理設備就進行污水處理，其污水處理的方法可以用：
1、物理法：物理法中的格柵主要是用以截阻大塊的呈懸浮或漂浮狀態的固體污染物，而且還可以將原有的膠狀材料收集起來進行回收利用，從而提高材料的利用率，降低成本。
2、混凝沉淀法：往污水中加入混凝劑，混凝劑可以使水中的懸浮物以及中膠體物質等聚集成大顆粒絮體，在下落的過程中可以加速其沉淀的速度，最后達到固液分離的目的。
3、生物法：生物法可以達到去除部分的COD，從而提高B/C，主要是采用采用厭氧+好氧生物處理法的方式。
對于光刻膠工業的污水主要的污染物有樹脂合成物、生物難以降解物質、有機物、石油類等，因此是不能直接排放于大自然中，但是不同的工業用的原材料是不一樣的，因為采用的水處理工藝也是不同的。
